由企业决定…。

　　为了得到10亿美金的订单，通产省拿出更大的条件，如果大深市芯片产业有限公司，继续与东芝公司在存储芯片续约，企业双方将会开展更广泛地技术合作…。

　　张教授没有拒绝，表示先把这一个信息告知大深市芯片产业有限公司创始人，然后，再回复…。于是，张教授把曰本通产省大臣河本的信息转告给李飞…。

　　…

　　得知此信息后，李飞经过深深地一思考，明锐地注意到这是一个好的机会，认为可以控股尼康光刻机，

　　前提条件是注册浸没式光刻技术专利，再拿出浸没式光刻技术，控股尼康公司？

　　…

　　不过，李飞一想，这样的是不是便宜了尼康公司…

　　可是又转念，将来大深市芯片产业有限公司研发光刻机，是需要大量的专利，而这些专利技术掌握在尼康和asml手里，

　　如果要想造光刻机，是绕不开尼康和asml，这两家公司在光刻机布下的专利。

　　把浸没式光刻技术专利授权给尼康，是一个比较现的情况。

　　…

　　另外，光刻机技术真是太复杂了…，并且，每一个零件都是精密的…。

　　光刻机真的是复杂…

　　如果说现在拿出浸没式光刻技术，并获得尼康公司，或者asml的股份，并且，在光刻技术上，有大深市芯片产业有限公司的专利，

　　这样的话，就不用担心芯片制造的问题，因为大深市芯片产业有限公司，与尼康公司，或者说asml公司已经是在商业技术上捆绑在一起…。

　　…

　　…

　　同时，需要说明的是，浸没式光刻技术是林本坚在2002年发明的，其技术原理就是，利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率，

　　因为沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而浸入式技术是将空气介质换成液体。

　　这样的话，就称为193nm浸入式光刻技术，因为之前，都是采用，采用的是193nm干式光刻技术，但在65纳米技术节点上遇到了困难，试验了很多技术（如157nm干式光刻技术等）但都无法很好的突破这一难题。

　　2002年底浸入式技术迅速成为光刻技术，才解决了以上的技术难点…。

　　不过，需要说明的是，自从asml使用了浸没式光刻技术，其光刻机迅速地占领全球80%市场，而尼康光刻机从此没落…。

　　…

　　思考到这里，李飞就觉得有必要考虑一下，就通过科技部张教授，向曰本通产省提出，愿意让东芝公司，日立公司加入大深市芯片产业有限公司…，

　　不过，李飞并没有直接提出在光刻机技术上合作…。因为需要一个时机再提出来，比较恰当…。

　　…

　　东芝公司，日立公司，又重

　　请收藏：https://m.bqg84.com

（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）